SkinClinic Маски

D-Stress mask Успокояваща и възстановяваща маска: Регенериране, успокояване, охлаждане
- Регенерира кожата.
- Frescolat® за моментално охлаждащо и успокояващо действие.
- Идеална успокояваща маска за след дерматологични процедури.
- Интензивна хидратация.
- Осигурява мекота, има успокояващ и противовъзпалителен ефект върху увредената кожа.
- За всички типове кожа.
- За раздразнена, увредена и подпухнала (с отоци) кожа, след интензивен дермален стрес.
D-Stress маската е козметичен продукт, чиято формула съдържа хиалуронова киселина и 7 високоефективни активни съставки за възстановяване на кожата, осигурявайки моментален успокояващ ефект. Съдържа Frescolat®, който осигурява освежаващо и успокояващо действие. Идеален продукт за бързо регенериране и успокояване на раздразнена кожа след медикоестетични, дерматологични, пилинг процедури или средноабразивни химически пилинги.  Забележителен продукт с високотолеранта база, който се адаптира към всички типове кожа, включително раздразнена и чувствителна кожа.
D-Stress маската е много повече от възстановяващ крем, който успокоява и хидратира кожата. Нейните качества са подсилени с активни съставки, които е трудно да се намерят в други кремове, като например:
- Ултра нискомолекулна хиалуронова киселина и Ectoin®, които осигуряват висока и интензивна хидратация.
- Зеленият чай е добавен заради неговите антиоксидантни и противовъзпалителни свойства, които предотвратяват разграждането на компонентите на екстрацелуларната матрица и заради фотопротекторния му ефект.
- Ectoin® подобрява възстановяването на кожната бариера, овлажнява, действа противовъзпалително, антиоксидантно и предпазва кожата от синята светлина.
Козметични действия:
1. Дермално обновяване
Крем маската е богата на активни съставки които модулират и ревитализират  клетъчния растеж и активност като: хиалуронова киселина, Ectoin®, зарасличе, невен, алое вера.
2. Интензивна хидратация
Хиалуронова киселина, Ectoin®, масло от сладък бадем и алое вера генерират интензивна хидратация за всички типове кожа и едновременно с това изглаждат, придават блясък и еластичност.
3. Успокояване
Активни съставки с противовъзпалителни и омекотяващи свойства, които доставят усещане за релакс и комфорт на увредената и раздразнена кожа: Frescolat®, Rhamnosoft®, зелен чай, невен, зарасличе и алое вера.
Начин на употреба: 
Като овлажнител за атопична и деликатна кожа. Нанася се сутрин и/или вечер на чиста кожа. След медикоестетична процедура се следват професионалните инструкции. За външна употреба. Не се нанася на рани и лигавица. Не се използва веднага след радиочестотна терапия или LED маска. 
Интензивна грижа: В случай на средно или интензивно раздразнение се смесват равни части от D-Dtress и Hialucos и сместа се нанася при нужда толкова често, колкото е необходимо, до изчезване на раздразнението.
Количество: 200 мл

Обща отстъпка: 21.65%

D-Stress mask Успокояваща и възстановяваща маска: Регенериране, успокояване, охлаждане
- Регенерира кожата.
- Frescolat® за моментално охлаждащо и успокояващо действие.
- Идеална успокояваща маска за след дерматологични процедури.
- Интензивна хидратация.
- Осигурява мекота, има успокояващ и противовъзпалителен ефект върху увредената кожа.
- За всички типове кожа.
- За раздразнена, увредена и подпухнала (с отоци) кожа, след интензивен дермален стрес.
D-Stress маската е козметичен продукт, чиято формула съдържа хиалуронова киселина и 7 високоефективни активни съставки за възстановяване на кожата, осигурявайки моментален успокояващ ефект. Съдържа Frescolat®, който осигурява освежаващо и успокояващо действие. Идеален продукт за бързо регенериране и успокояване на раздразнена кожа след медикоестетични, дерматологични, пилинг процедури или средноабразивни химически пилинги.  Забележителен продукт с високотолеранта база, който се адаптира към всички типове кожа, включително раздразнена и чувствителна кожа.
D-Stress маската е много повече от възстановяващ крем, който успокоява и хидратира кожата. Нейните качества са подсилени с активни съставки, които е трудно да се намерят в други кремове, като например:
- Ултра нискомолекулна хиалуронова киселина и Ectoin®, които осигуряват висока и интензивна хидратация.
- Зеленият чай е добавен заради неговите антиоксидантни и противовъзпалителни свойства, които предотвратяват разграждането на компонентите на екстрацелуларната матрица и заради фотопротекторния му ефект.
- Ectoin® подобрява възстановяването на кожната бариера, овлажнява, действа противовъзпалително, антиоксидантно и предпазва кожата от синята светлина.
Козметични действия:
1. Дермално обновяване
Крем маската е богата на активни съставки които модулират и ревитализират  клетъчния растеж и активност като: хиалуронова киселина, Ectoin®, зарасличе, невен, алое вера.
2. Интензивна хидратация
Хиалуронова киселина, Ectoin®, масло от сладък бадем и алое вера генерират интензивна хидратация за всички типове кожа и едновременно с това изглаждат, придават блясък и еластичност.
3. Успокояване
Активни съставки с противовъзпалителни и омекотяващи свойства, които доставят усещане за релакс и комфорт на увредената и раздразнена кожа: Frescolat®, Rhamnosoft®, зелен чай, невен, зарасличе и алое вера.
Начин на употреба: 
Като овлажнител за атопична и деликатна кожа. Нанася се сутрин и/или вечер на чиста кожа. След медикоестетична процедура се следват професионалните инструкции. За външна употреба. Не се нанася на рани и лигавица. Не се използва веднага след радиочестотна терапия или LED маска. 
Професионална употреба: След която и да е процедура се нанася на плътен слой като маска и се оставя за 10-15 минути. След това се отнема излишъка със салфетка, без да се отмива с вода.
Интензивна грижа: В случай на средно или интензивно раздразнение се смесват равни части от D-Dtress и Hialucos и сместа се нанася при нужда толкова често, колкото е необходимо, до изчезване на раздразнението.
Количество: 200 мл

-50% Clay-Pure mask Дълбокопочистваща и себорегулираща маска: Себорегулиране
- Намалява излишните повърхностни мазнини.
- Изсушаващ ефект.
- Помага за предотвратяване на запушване на порите.
- Премахва лъщенето, черните точки и замърсяванията.
- Интензивно почиства.
- Помага за намаляване на размера на порите.
- За комбинирана към мазна и / или склонна към акне кожа.
- За лице и тяло.
Clay-Pure Mask е себорегулираща глинена маска за комбинирана до мазна и / или склонна към акне кожа. Формулирана е на базата на активни съставки като хлорхексидин, салицилова киселина и цинков оксид, бяла и зелена глина, които: 
- Почистват старателно кожата, оставяй я суха и матова кожа, без мазнини.
- Има изсушаващ ефект върху белезите от акне.
- Предотвратява запушването на порите.
- Обновява най-повърхностния слой епидермален слой.
В допълнение към елиминирането и предотвратяването на появата на черни точки, маската намалява и подобрява размера на разширените пори, характерни за тези кожи, улеснява екстракцията им. Благоприятства за по-чиста, матова и за свободна от замърсявания кожа.
Може да се използва както за лице, така и за тяло. За професионална и домашна употреба.
Козметични действия:
1. Себорегулиране
Комбинацията от цинков ацетат, цинков оксид, мимоза, течна биосяра, хлорхексидин, каолин, бентонит и салицилова киселина позволява чрез различни механизми на действие да се регулира излишното омазняване на повърхността, да се предотврати разрастването на белези и пигментни петна, както и да се подобри неравномерната текстура, характерна за мазна и акнеична кожа.
2. Пречистващо действие
Цинков ацетат, цинков оксид, хлорхексидин и салицилова киселина предотвратяват растежа на бактерии. Маската ефективно се бори с белезите, папулите и пустулите, пречиствайки кожата. В допълнение, Cytobiol Iris A² съдейства за намаляване размера на порите и следователно се подобрява не само общия външен вид на кожата, но се помага да се избегне запушването на порите и възможната й инфекция.
Начин на употреба: 
Нанася се на тънък слой, а в зоните с повече пъпки се нанася по-дебел слой. Оставя се да действа за 15-20 минути. Измива се обилно с вода. Може да се прилага върху локализирани комедони и папули. За външна употреба.
Количество: 100 мл

Обща отстъпка: 20.49%